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十五五会否明确EUV光刻机目标

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十五五会否明确EUV光刻机目标
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该方案将如何影响中芯国际、寒武纪、沐曦、摩尔线程及科创板相关企业？

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肯尼迪彤心　

当前局势已趋于明朗，影响相对有限。美国持续近十年的对华贸易摩擦，非但未能缩小逆差，反而使中国对美货物贸易顺差扩大至约1万亿美元。双方均意识到单边施压难以为继，美方已实质性调整策略，逐步收缩对抗范围，转向更务实的管控路径。在关键技术领域，尽管部分出口管制仍存，但实际效力显著减弱；尤其在极紫外光刻（EUV）技术方面，中国已突破核心瓶颈，不存在难以逾越的技术壁垒。目前多条自主研发路径并行推进，产业化进程加速，预计最晚2027年即可实现EUV设备量产，较此前预期大幅提前，技术演进节奏稳健有序。
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Dovarhkiin0518　

光刻机本就是基础前提，无需单独列入方案；重点应放在实现国产芯片性能达到国际顶尖水平这一核心目标上。
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暖姝思怡　

我同学是集成电路领域的杰青，群内被问及时坦言：知道的不能说，不知道的也无法回应。
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zhi9529　

01和02专项有独立的结题安排，与155项目无关。
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