外媒:中企已经开始“打”脸ASML公司了

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中企在光刻机招标中取得突破,外媒认为这“打脸”了ASML公司。具体分析如下:

ASML公司曾公开轻视中企:ASML公司高管曾公开表示,即便公开图纸,中国也造不出光刻机。这种言论反映了其对中国技术能力的轻视。

中企积极投入光刻机自研:面对技术封锁,中国科学家、中科院、清北高校及科技企业纷纷加入自研光刻机及芯片的行列,并取得了显著进展。

ASML公司态度转变:面对中企的决心和进展,ASML公司改变了对中国市场的态度,加大了在中国的投资和布局,建立了开发中心、办事处及维修中心,中国团队人数超过1500人,并计划继续扩招。

中企招标结果“打脸”ASML公司:

在最近一轮光刻机招标中,总招标数量为28台,其中7台(25%)由国产光刻机企业中标,21台被日企拿下,ASML公司未能获得任何订单。

这一结果被外媒视为中企对ASML公司的“打脸”,因为ASML公司曾嘲笑中企造不出光刻机,如今却被中企“淘汰”。

中企绕开ASML公司的原因:

技术依赖问题:ASML公司的光刻机对美技术依赖度高,中企希望实现“去美化”,降低技术风险。

安全考量:采购ASML公司的光刻机可能面临被美“卡脖”的风险,一旦发生,损失将由中企自行承担。

日企的替代选择:尼康、佳能等日企的光刻机技术实力不俗,且对美技术依赖更低,设备安全性更高。

自研目标:中国科技企业坚持自主研发,实现芯片国产化,自研的国产光刻机被视为最安全的选择。

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2100i标称值是15nm,所以不是人家被打脸,是咱们早把验光单拍桌上等着配新眼镜了,外媒估计还在翻十年前的行业白皮书!
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笑死,外媒这标题党水平又刷新下限了,咱们中企压根没跟ASML正面刚,而是学着农村包围城市——先拿OLED面板光刻、LED芯片制造这些非CPU赛道练手,把投影式光刻、激光直写这些替代技术玩得飞起,连京东方都开始定制化开发Micro-LED巨量转移光刻设备了,ASML还在PPT里讲2025年量产High-NAEUV,咱们工程师茶水间都聊上下一步干不干14nm等效工艺了,这节奏感谁顶得住?
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别光听标题热血上头啊家人们,仔细扒了下报道原文发现所谓打脸其实是中芯国际联合国内团队在成熟制程设备国产化上取得突破,比如上海微电子28nm光刻机开始小批量验证,配套的光源、镜头、控制系统全换成国产供应商,ASML那边确实卡了我们好几年DUV光刻机出口,现在咱自己吭哧吭哧把产业链缝合起来了,这哪是打脸,分明是默默绣了一面五星红旗贴在光刻机外壳上!
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打脸不带响的,但震得整个半导体圈耳朵嗡嗡响!
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