中国有几台光刻机

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二百台。光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几微米之间。
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截至2024年中,国内能稳定供货并进入量产线的国产光刻机,全部集中在90-28nm节点,型号以SSA600/800系列为主,累计出货刚破百台;而ASML一台EUV售价超5亿欧元,咱们连零部件供应链都没闭环,更别说整机集成和光源系统了。所以别纠结几台,多关注中科院光电所的光源进展、科益虹源的准分子激光器迭代,那才是真功夫!
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看到这问题我翻了下半导体行业协会2023年报和工信部装备司的公开数据——国内晶圆厂+科研院所+封装测试厂保有的各类光刻设备总数估计在2500台以上,其中进口占比超85%,主要来自ASML(约1400台)、尼康、佳能;国产交付的约230台,集中在LED、功率器件、MEMS等非逻辑芯片产线。注意,有几台不等于能用在哪,像合肥长鑫的DRAM产线用的还是进口DUV,而上海微电子最新SSA800-10W据说已通过28nm验证,但量产爬坡还没完全跑通,这事儿真得给点耐心和信心!
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哎呀这个问题问得挺热门的!其实严格来说,中国目前没有能造出EUV光刻机的厂家,上海微电子(SMEE)倒是量产了90nm、65nm甚至部分28nm工艺的国产光刻机,但主要是DUV浸没式和步进扫描型,不是阿斯麦那种波长15nm的神机。网上老传中国有几台光刻机,其实混淆了拥有和自主研发制造的概念——中芯国际、长存这些厂确实进口了不少ASML、尼康的设备,但国产整机目前还是集中在中低端领域,技术攻关还在路上,别信那些一夜突破的短视频哈~
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0台。连二手的都买不到,受瓦森纳协定限制死死的。所以别光看数量,关键得看精度、稳定性、套刻精度这些硬指标,咱们工程师正熬夜调参数,急不得但也绝不躺平!
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