3年内中国能不能搞出EUV光刻机?

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首先,肯定要抱最大希望;其次,要了解到技术确实有难度,不是一朝一夕可以搞定的。

之所以抱大希望,中国人民是极其智慧的人民,而且勤奋好学谦虚谨慎,再由我们系统的制造能力做加持,突破是肯定的事!

光刻机,可以说是微电子行业最璀璨的明珠,乃人类智慧集大成之物,结构复杂,工艺精湛,设计,制造,集成,调试等等都需要摸着石头过河,因为我们没有经验。

国人们屡次讨论光刻机,可见大家有多关心。但是涉及保密的内容还是不要提为好,毕竟美帝和敌特是最不希望我们光刻机自主的,他们会伺机破坏。

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目前上海微电子装备有限公司的28nm浸液光刻机项目,子项目由国内中科院联合著名大学共同公关,其中长光所的DUV光源(北京国望光学)、清华大学的双工台件(华卓精科)、浙江大学的浸液系统(浙江启尔机电),物镜曝光系统方面,长春光机所应用光学国家重点实验室和国防科技大学光学精密工程创新团队负责;激光光源照明系统方面,中国科学院上海光学精密机械研究所负责。上海微电子(SMEE)负责集成,分项目的实施有利于各个突破,不利的地方是各单位都是科研机构,不是企业,在转化为企业后也存在着互相配合的问题。

华为加盟与SMEE合作后,可以把IBM教会的项目管理经验传授给SMEE,进一步做好对各科研团队的整合。#光刻机#

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3年内可能有点难,毕竟EUV光刻机就高级多了,当然也复杂多了,需要的是成套的技术升级,这需要所有的技术成熟才行,比如光源、曝光系统、掩模、控制台,甚至是光刻胶都要达到相等的要求。


目前来说我们先把193nm的DUV光刻机做到7nm的精度再说吧!因为7nm就已经可以解决90%以上的芯片需求了,但是EUV光刻机肯定是在研究的,据说搞这个技术的主要是长春光机所,这个科研单位也是属于中科院旗下。

三年可能有点难,但是按照计划是2030年实现EUV光刻机交付,所以未来光刻机这个问题肯定可以解决。不过个人觉得眼下最重要的其实不是光刻机,而是半导体全产业链的发育,还有新技术的探索。


因为摩尔定律即将毕竟天花板,今年无论是台积电还是三星5nm工艺所带来的制程红利都已经不多,而且越往下走会越难,即使未来有一天,技术上可以实现,但成本和良品率可能已经不允许量产了,就像是几十年前的晶体管和电子管一样。

未来会出现一种新技术,这种新的芯片制造技术也许前期看不出来什么,但后面就会逐渐取代现在的硅晶体管,表现出非常强的优势来,如果我们国家能在这个产业取代先机,甚至是产业链优势,那就不用惧怕什么了,因此重点不是光刻机,也不是光刻机几年能做出来,而是成熟的半导体产业链和人才的积累以及新技术的研发投入。

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就轻工产品而言,很多国外著名品牌是外商贴牌中国生产的。相对许多高科技产品,国内国外各有优势,并不是中国一无是处。就机床、汽车工业而言,机床主要生产机械零部件,但中国上规模汽车生产厂家都是由外方主导的中外合资,外方肯定配合其国内利益相关方的利益,而且部分是利益捆绑联动的,另外国外高端机床确实也此联动获得市场需求而不断投入技术改造并升级。相反中国国内机床厂家单打独斗,没有与机械加工工业形成利益的联动捆绑作用,科研经费投入不足,升级改造慢,市场需求量达不到规模经济要求,自然比较成本更高,在竞争自己败落给国外同类机床厂家。所以没有联动利益捆绑,利益面前各谋其利,任何倡导国产优先,扶持本国民族工业都是假的。荷兰阿斯迈光刻机公司就是通过利益联动捆绑,把英特尔高通三星台积电等捆绑一起,他们都是阿斯迈的股东,又是阿斯迈的客户,双方共存共荣,既保证阿斯迈有来自于股东的持续不断投资,阿斯也为这些股东公司获得先进光刻机提供了保障。不知中国人的聪明,有没有反被聪明误,我们拭目以待。

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具体时间是不确定的。

希望能快些。

中国已经有了极紫外光刻技术只是还在实验阶段。

中国量产极紫外光刻机是早晚的事。

中国的极紫外光刻机晚出来但技术会更好。

中国科技是最善于运用后发优势的了。

洋人的玩意儿到了中国人手里都能玩成绝活。

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不能,需要5年。十三五euv光刻机关键技术已经突破,euv光刻机已列入十四五02专项重点计划。考虑到十三五的duv光刻机拖期一年,十四五末能研发出样机已是很了不起的成绩。

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你看中国能不能做顶级光刻机,不要看表面,就看中国的机床,精密仪器设备,精密零部件,工业软件等等基础工业制造业什么时候达到世界顶级,但是比较遗憾,短期内看不到希望。如果你仔细观察,你会发现中国在各个领域几乎没有任何东西做到世界顶级,机床,汽车,手表,甚至西服,球鞋,呼吸机,自行车。。。。。。。。所以务实点,路长得很。

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如果华为徐直军去上微的消息是真的,假如是真的,那么说明国家和华为已经下了不破楼兰誓不还的决心。那成功就是必然的,因为我没见过华为决心要干的事情,最后是失败的。

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