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中国光刻机7纳米比较于什么水平？

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q7021261

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作为一个天天刷半导体新闻的理工男，我查过中科院光电所、哈工大和上微的公开论文和专利，目前所谓7nm大多是指用多重曝光+国产DUV设备在实验室里做出的线宽测试结果，属于技术可行性验证，不是产线良率达标的产品级能力；打个比方就像你用家用打印机加十遍套色勉强印出高清图，但离印刷厂高速滚筒印刷还差十万八千里，真正卡脖子的不是设计而是稳定量产、每小时上百片晶圆的精度控制和缺陷率，这玩意儿急不得
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chuxiaofeng66

一台光刻机有十万个零件，德国蔡司的镜片、美国Cymer的光源、荷兰的精密控制系统，咱们现在能自主替代的可能不到三成，说7nm光刻机已自主纯属把科研突破当量产成果吹牛
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ZS52070123

哎呀说实话，现在网上老传中国光刻机已突破7纳米这事儿真容易让人误会，得帮大家捋清楚——目前咱们国产最成熟的DUV光刻机（比如上海微电子的SSA800系列）实际量产能力还在90nm到28nm区间晃悠，7nm这级别连原型机都还没公开验证过，更别说量产了；ASML的EUV光刻机一台卖5亿美金还要排队抢，咱们连EUV光源、双工件台、精密光学镜头这些核心部件都还在攻关阶段，所以别信那些标题党，踏实点看进展反而更安心
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fanyongf

你们外行总问7nm，我们厂里连28nm用的光刻机都是二手进口的！说实话，国内光刻机连成熟制程的市占率都不到5%，大部分晶圆厂宁可加价买二手ASML也不愿试国产机，为啥？换一次机台要停线三天，调试半个月，良率掉两个点老板就骂人；所以现在国家砸几百亿搞02专项，重点其实是补材料、零部件、检测设备这些隐形冠军短板，真想追上，至少还得十年沉下心来啃螺丝钉级别的细节
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