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021site_xiazai

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1. 我国确实拥有光刻机技术。
2. 我国已经掌握了自主研发和生产光刻机的能力，并在该领域取得了重要进展。
3. 光刻机是芯片制造的关键设备，我国企业如上海微电子装备有限公司已能生产此类设备，并在某些技术指标上达到了国际先进水平。
4. 除了企业，国内科研团队和高校在光刻机技术研究上也取得了突破，为我国光刻机产业的发展做出了贡献。
5. 尽管我国在光刻机技术上已取得进步，但与国际先进水平相比仍有差距，需要继续加大研发力度，提高自主创新能力。
6. 我国还需要加强产学研合作，推动光刻机技术的应用和发展，以支持国内芯片产业的需求。
7. 总之，我国已经能够自主研发和生产光刻机，并在关键技术上实现了突破。然而，为了满足芯片产业的发展需求，我们仍需不懈努力，提升技术水平，并促进企业和研究机构之间的合作。
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yingmu2011

上周陪表弟去深圳参加半导体展，现场看了台国产90nm步进式光刻机（不是模型！），工作人员说已给多家IDM厂送样验证，良率从初期65%拉到89%了。最打动我的是他们展示的国产精密气浮导轨——以前全靠德国进口，现在自己做的重复定位精度达±5纳米。虽然离5nm还远，但就像当年高铁一样，先把路基打牢，后面换道超车才不翻车，咱老百姓就该多给点耐心和掌声
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494475785

别光盯着光刻机，清洗机、涂胶显影机、量测设备哪个不被日本美国捏着？国产光刻机能做90nm已经算逆袭了！他还翻出2018年上海微电子交付首台SSA600/20的旧新闻给我看，说当时连镜头镀膜都要反复调试三个月。现在听说合肥有团队用飞秒激光+AI算法优化曝光均匀性，虽说是小步快跑，但至少工程师们头发掉得值
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a3316790

说实话我最近刷短视频老刷到国产光刻机的新闻，又是长春光机所突破光学系统、又是上海微电子28nm浸没式快量产的消息，但一查发现好多还是工程样机或者关键部件靠进口，比如光源和双工件台还是卡脖子。不过看到中科院把EUV光学系统写进十四五重点专项，连中芯国际都开始联合攻关，感觉不是画大饼，而是真在啃硬骨头——虽然离ASML还有十年差距，但至少不用再被一张出口许可证堵死喉咙了
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wd403655039

一边是三年超ASML的营销号，一边是永远造不出的悲观派。其实查过公开专利就知道，长光所2023年刚授权一项多层膜反射镜误差补偿技术，清华团队也把极紫外光源稳定性提到92%——这些细节没人吹，但恰恰是光刻机最吃功夫的地方。进步是慢，可真没躺平
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