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pyc34255

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目前全球能制造高端光刻机的国家极少，仅荷兰（ASML）、日本（尼康、佳能，但已退出EUV研发）具备整机能力；其中只有荷兰ASML掌握EUV光刻机技术。德国、美国等提供关键子系统（如蔡司镜头、Cymer光源），但不具备整机制造能力。
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简单来说，光刻机的研制最难把控的地方就在于它需要超高的精准度，所以在研制过程中需要科研人员反复进行调整和试验，这样才能达到合适的精准度，工程师表示，有时候仅仅是完成一个零件的打磨就需要10年。而要想满足这一要求，就需要这个国家拥有发达的工业生产能力，以及非常先进的科技水平，但是目前可以做到在这两个领域内都十分出色的国家却非常少。

除此以外，研制高端光刻机所用到的原材料也十分稀有，这进一步增加了研制高端光刻机的难度。毕竟当研制过程中缺少原材料时，就只能从其他国家进口，若是其他国家不愿意将这些原材料卖给你，那么研制阶段也会被迫中止。

就以中国目前的发展进度来说，我们也无法得知多久才能研制出国产高端光刻机。据了解，高端光刻机的最高精度可以达到5纳米左右，但是我国所研制出的光刻机的精度只有28纳米。从这里我们也可以看出，中国要想研制出高端光刻机，还有很长一段路要走。

高端光刻机作为目前世界上最先进的科技产品，日本和荷兰也不可能将研制技术卖给其他国家，因此我国就不能再通过进口的方式，来尽快提升自己的研制技术了。

中国如果不想在这个领域内受到其他国家的限制，唯一的办法就只有尽快研制出高端光刻机，虽然不能从其他国家进口高端光刻机，但是我国可以多引进一些这方面的人才，以此来解决我国在发展过程中所面临的难题。
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song8210

因为现在的技术还不是特别的高尚，而且也没有特多多有能力的人，可能是里面有一些零件还没有研发出来，所以现在才不能制造出。这是一个大工程。
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aimin1232

简单来说，光刻机的研制最难把控的地方就在于它需要超高的精准度，所以在研制过程中需要科研人员反复进行调整和试验，这样才能达到合适的精准度，工程师表示，有时候仅仅是完成一个零件的打磨就需要10年。而要想满足这一要求，就需要这个国家拥有发达的工业生产能力，以及非常先进的科技水平，但是目前可以做到在这两个领域内都十分出色的国家却非常少。

除此以外，研制高端光刻机所用到的原材料也十分稀有，这进一步增加了研制高端光刻机的难度。毕竟当研制过程中缺少原材料时，就只能从其他国家进口，若是其他国家不愿意将这些原材料卖给你，那么研制阶段也会被迫中止。

就以中国目前的发展进度来说，我们也无法得知多久才能研制出国产高端光刻机。据了解，高端光刻机的最高精度可以达到5纳米左右，但是我国所研制出的光刻机的精度只有28纳米。从这里我们也可以看出，中国要想研制出高端光刻机，还有很长一段路要走。

高端光刻机作为目前世界上最先进的科技产品，日本和荷兰也不可能将研制技术卖给其他国家，因此我国就不能再通过进口的方式，来尽快提升自己的研制技术了。

中国如果不想在这个领域内受到其他国家的限制，唯一的办法就只有尽快研制出高端光刻机，虽然不能从其他国家进口高端光刻机，但是我国可以多引进一些这方面的人才，以此来解决我国在发展过程中所面临的难题。
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xly960828

这个要看你怎么去定义所谓的高端了
如果你的高端指的是EUV（极紫外光刻机），那么成品仅有荷兰的ASML一家可以生产
如果放宽到DUV光刻机（深紫外光刻机193nm）或其相当的产品，那么除了ASML，日本的佳能，尼康都可以制造
如果进一步放宽到248 nm KrF光刻机（或其相当的技术水平），那么除了荷兰，日本厂商，大陆的上海微电子，台湾的科毅科技（采用电子束直写技术），德国的SUSS微电子等大量厂商都可以提供。

再往i-line，g-line光刻机的话，那厂商根本数不完了，几十家都有的
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tianshengsheng

在世界上只有中国，美国，英国，印度，泰国这些地区能制造这个机子，主要是因为这个机子需要很多的耐心，而且技术要求也相当高。
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a34234ad

除了荷兰，日本、中国也可以制造光刻机，日本的代表企业是尼康和佳能，中国的代表企业是上海微电子（SMEE）。
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2001wanmei

全世界只有中国、日本、荷兰可以制造光刻机，日本的代表企业是尼康、佳能，曾经的光刻机“王者”，后来被荷兰ASML反超后就一蹶不振了，而中国也可以制造光刻机，只是达不到顶尖光刻机的精细程度。

目前，荷兰ASML一家公司几乎垄断了全球的高端光刻机市场，主要是EUV光刻机，造价极高，暂时没有一家竞争企业可以与之匹敌，每年稳定向大客户供货。

光刻机的分类

光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。

1、手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了。

2、半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。

3、自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
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