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上海微电子装备有限公司位于中国国家级高新技术园区张江高科技园区，邻近国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地、国家863信息安全成果产业化（东部）基地等。成立于2002年，主要研发、生产、销售及服务大规模工业投影光刻机，产品广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。

公司以提供极致服务，制造高端产品，创造卓越价值为目标，全心全意为顾客提供高质量的产品和技术支持与服务。已获得ISO27001信息安全、ISO9000质量管理、ISO14001环境管理等国际认证，确保为客户提供持续、稳定、高品质的产品和服务，履行一个优秀高科技企业的社会责任。

公司建立了与高科技企业相适应的知识产权管理体系与机制，成为全国企事业知识产权示范创建单位、上海市专利工作、知识产权示范企业。
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dsqyijszbwbw

简单说就是中国光刻机产业的扛把子，成立于2002年，注册资本超12亿，员工近2000人，核心业务覆盖集成电路前道光刻、先进封装、FPD平板显示和LED四大领域，它家的SSB500系列封装光刻机已经批量出货多年，前道90nm分布式光源步进扫描光刻机也通过了国家02专项验收，官网显示已获授权发明专利超1200件，而且不玩资本噱头——没有上市、不蹭热点、连微博都懒得更，就闷头在张江实验室里调光路、测波长、啃材料，这种低调干大事的国企背景民企范儿，在当下真的不多见了
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930707

这家公司我之前查资料时还挺震撼的，全名叫上海微电子装备（集团）股份有限公司，不是小作坊而是国家级重大专项的承担单位，主要做投影光刻机、封装光刻机、LED/MEMS制造设备等，尤其封装光刻机市占率在国内都排第一，技术团队里一堆清华、中科大、哈工大的博士，厂房里恒温恒湿比医院手术室还严，去年还发布了SSA600系列光刻机，能支持28nm后端工艺，虽然离EUV还很远，但人家是实打实从零起步、连螺丝钉都坚持国产化替代的实干派，真不是PPT造芯那种画饼公司
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baoan998

上海微电子装备有限公司（SMEE）是咱们国家半导体设备领域的国家队选手，2002年成立，总部就在上海张江，专门搞光刻机这类高端精密装备的研发和生产，虽然现在还没完全追上ASML那种顶级水平，但在90nm、65nm甚至部分28nm工艺节点的前道光刻机上已经实现了国产替代突破，还给中芯国际、长江存储这些大厂供货，背后有中科院、科技部和上海市政府强力支持，算是中国硬科技突围路上特别值得点赞的一家隐形冠军企业
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sbl22924912_xiazai

上海微电子装备有限公司专注于提供各类光刻机和相关设备，以满足集成电路制造的多样化需求。以下是对公司产品系列的详细介绍。

在前道IC制造领域，上海微电子提供600扫描光刻机系列，涵盖90nm、130nm和280nm等不同分辨率节点要求的ArF、KrF及i-line步进扫描投影光刻机。这些设备兼容200mm和300mm硅片，适用于大规模生产。

对于后道IC封装及MEMS制造，500步进光刻机系列采用了先进的步进光刻机平台技术。此系列设备采用高功率汞灯的ghi线作为曝光光源，具备逐场调焦调平技术，对薄胶和厚胶工艺以及TSV-3D结构具有良好的适应性。设备通过专利图像智能识别技术，无需设计特殊对准标记。设备在分辨率、套刻精度和生产率方面表现出色，满足用户对高性能、高可靠性以及低使用成本的需求。

针对AM-OLED显示屏制造，上海微电子提供200光刻机系列，综合采用先进的步进光刻机平台技术和扫描光刻机平台技术，专用于AM-OLED显示屏的TFT电路制造。设备不仅适用于不同工艺研发线，也适用于量产线，支持基板尺寸为200mm × 200mm和G2.5/G4.5级别的生产。

硅片边缘曝光机系列是为满足芯片级封装工艺中对硅片边缘进行去胶处理的需求而开发。设备提供根据客户要求配置的边缘曝光宽度、硅片物料接口形式和曝光工位等选项，并兼容150mm、200mm和300mm规格的硅片，边缘曝光精度可达0.1mm。高功率光源确保硅片面照度，提高设备产量。

在精密温控领域，上海微电子为集成电路行业提供多种超/高精度温度控制装置，用于扫描光刻机、刻蚀机等设备的精密温度控制，同时也应用于精密光学、仪器、精密机床制造及科学实验场所。设备的温度精度可达0.01℃，控温范围从-30℃至90℃。

上海微电子还提供全面的精密温度控制解决方案，从设计、制造、安装、调试到维护提供一条龙服务。这些解决方案适用于光学镜头、光栅、精密元件、精密仪器和精密机床制造等领域，特别适合材料提纯、测试、测量和定位定准等科学实验场合。
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