台积电二代5nm工艺

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台积电二代5nm(N5P)是初代5nm(N5)的优化版本,2020年量产。主要提升包括:晶体管密度微增、功耗降低约7%、性能提升约5%,良率与稳定性更好,但未改变基本架构(仍为FinFET)。用于苹果A14、M1等芯片。
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IBM的最新力作,z15主机以其卓越的性能再次证明了IBM的科技实力,特别是其集成的1315MB海量缓存,令人瞩目。
z15在晶体管数量上超越了z14,每颗芯片搭载12个物理核心,面积达到696平方毫米,与上一代持平。在缓存设计上,z15显著提升了缓存容量,每个核心的一级和二级缓存分别增加了一倍,达到3MB和96MB,总计1315MB,是上一代的两倍多。
三级缓存从128MB翻番至256MB,四级缓存增长近一半,达到960MB。值得注意的是,即使是工艺保持在14nm FinFET SOI,IBM仍能实现如此惊人的密度提升。二级至四级缓存的eDRAM存储单元,其密度甚至超越了台积电5nm工艺的SRAM,显示出IBM在制造技术上的精湛。
David Schor的分析也印证了这一点,IBM/GF 14nm工艺在集成密度上表现出色。总的来说,IBM z15不仅在缓存容量上创新高,而且在工艺技术上也保持了领先,证明了其在高性能计算领域的强大实力。
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Intel在2021年的工艺较量中,计划推出7nm EUV工艺,旨在挑战台积电的5nm工艺。然而,台积电并未坐视对手进击,他们早已提前布局,2021年Intel的7nm工艺面世之际,台积电的5nm Plus工艺也将同步准备就绪,预计将具备性能和能效的双重优势。在半导体技术上,台积电已经实现了7nm工艺的量产,并且今年会进一步升级为第二代7nm工艺,采用EUV光刻技术,而5nm节点的推进更为迅速,风险试产已启动于Fab 18工厂,预计2020年第二季度将实现商业化量产。
对于台积电的5nm Plus工艺,尽管具体优势尚未公布,但官方透露,这将是一个在性能和能效上都超越5nm工艺的重要节点,作为继7nm制程后的又一大突破,5nm Plus工艺将长期占据市场主导地位。
因此,可以预见的是,2021年将是Intel和台积电在先进工艺竞赛中的关键一年,而台积电的5nm Plus工艺将凭借其潜在的性能和能效提升,为市场竞争增添新的动力。
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台积电在2019 VLSI Symposium研讨会上低调展示了增强版7nm/5nm工艺的最新进展。首先,台积电的7nm工艺增强版N7P,虽然基于第一代N7 7nm,依然采用DUV深紫外光刻技术而非EUV极紫外光刻,但通过优化前线和后线设计,能在保持晶体管密度不变的情况下,实现7%的性能提升,或者在相同性能下降低10%的功耗。
而5nm工艺的增强版N5P,同样注重前线和后线优化,能够带来7%的性能提升,或者在同等性能下降低15%的功耗,尽管目前还未公布具体客户使用情况,但其优化程度可见一斑。
值得注意的是,台积电将7nm和6nm视为长期工艺节点,计划持续多年使用,而5nm则被视为从7nm到3nm技术过渡的重要环节。在3nm工艺上,台积电的研发进展顺利,已经吸引了早期客户参与,预计2022年将实现初步量产,标志着台积电在先进制程技术上的领先地位。
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结论:随着2021年的到来,新一代iPhone 13的脚步声愈发清晰,据最新消息,它将搭载苹果首款采用增强5nm工艺的A15处理器,预示着重大变革即将来临。 台积电全力以赴,配合苹果进行A15芯片的测试工作,这一代处理器采用的是第二代5nm工艺,相较于前代,性能提升显著,同时在功耗控制上也有所优化,堪称5nm工艺的巅峰之作。然而,考虑到3nm工艺可能的推迟,5nm工艺的性能提升或许仍存在瓶颈。
对于iPhone 13,我们有两点变化几乎确定:一是采用更成熟的5nm工艺A14芯片,搭配5nm工艺X60基带,形成强大的组合。此外,预计的改变还包括后置摄像头模块的提升,预计增加0.9毫米并可能采用蓝宝石玻璃覆盖,使模块更为坚固。摄像头模块的设计将借鉴2020年iPad Pro,凸起度减小,同时采用LTPO OLED显示技术,支持120Hz高刷新率的屏幕,这无疑将为iPhone 13带来前所未有的体验。
如果这些预期变为现实,iPhone 13无疑将迎来显著的飞跃,其成就有可能超越iPhone 6s/Plus那个时代的辉煌,令人期待。
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