3年内可能有点难，毕竟EUV光刻机就高级多了，当然也复杂多了，需要的是成套的技术升级，这需要所有的技术成熟才行，比如光源、曝光系统、掩模、控制台，甚至是光刻胶都要达到相等的要求。目前来说我们先把193nm的DUV光刻机做到7nm的精度再说吧！因为7nm就已经可以解决90... 查看全文