SiC MOSFET工艺包含哪些关键光刻步骤?

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涂胶→对准曝光→显影→硬掩膜刻蚀→去胶,中间还老得反复调参数,烦死了…
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光刻步骤跟硅差不多,但SiC太耐操了,得上深紫外或者电子束,掩膜版也得加厚
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光刻定义图形、干法刻蚀(ICP那种)、再光刻套刻,套不准直接报废
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光刻胶涂布、曝光、显影、刻蚀,SiC硬啊,刻蚀那步最折腾
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