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荷兰光刻机禁令生效，但该国行业巨头ASML仍然选择中国
荷兰光刻机禁令生效后，ASML依然选择中国的主要原因是其部分型号光刻机不受新出口管制法规限制，且中国市场对ASML具有重要战略意义。具体分析如下：
一、荷兰新出口管制法规的针对性限制范围有限并非所有光刻机均受限：荷兰政府颁布的新出口管制法规主要针对特定先进半导体制造设备，包括EUV薄膜生产设备、光刻设备、沉积设备、外延生长设备等，具体涉及薄膜沉积、光刻、雕刻等半导体制造链中的关键工序。但并非所有浸没式DUV光刻系统都受到限制。
ASML受影响的具体型号：ASML在此前的声明中强调，荷兰政府的新出口管制法规仅涉及TWINSCAN NXT:2000i及后续的浸没式光刻系统（DUV，深紫外光刻）。该公司的EUV光刻（极紫外光刻）系统此前曾受到限制，而其他光刻系统和低端光刻设备的出口不受荷兰政府控制。
ASML浸没式DUV光刻机型号及特点：
ASML浸没式DUV光刻机有4个主要型号：NXT:2100i、NXT:2050i、NXT:2000i和NXT:1980Di。
其中，NXT:1980Di光刻系统是ASML 10年前推出的老型号，是目前浸没式光刻机中唯一不受限制的型号。它支持NA 1.35光学器件，分辨率可以达到38nm以下，理论上可以应用于7nm工艺的生产。但目前大多数晶圆厂使用1980Di光刻机主要生产14nm及以上工艺芯片，很少使用它生产7nm芯片。
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